[发明专利]一种缺陷检测装置及方法有效
| 申请号： | 202011110665.X | 申请日： | 2020-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN112285116B | 公开（公告）日： | 2023-09-12 |
| 发明（设计）人： | 张鹏黎 | 申请（专利权）人： | 上海御微半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区中国*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种缺陷检测装置及方法，检测装置通过设置第一光源单元、第二光源单元和第三光源单元，同时照射待测样品，使得成像物镜分别采集第一照明视场、第二照明视场和第三照明视场在待测样品的表面产生对应的第一光信号、第二光信号和第三光信号，进而，探测器中的第三探测器阵列根据第一光信号产生第一图像，第二探测器阵列用于根据第二光信号产生第二图像，第一探测器阵列用于根据第三光信号产生第三图像，控制器根据第一图像、第二图像和第三图像对待测样品进行缺陷识别，从而实现了可同时采集明场照明、暗场照明和背光照明三种照明模式下的缺陷图像，并根据缺陷图像进行三种照明模式下的缺陷识别。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 缺陷 检测 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海御微半导体技术有限公司，未经上海御微半导体技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011110665.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
