[发明专利]一种单层单晶MoS2有效

专利信息
申请号: 202011120694.4 申请日: 2020-10-19
公开(公告)号: CN112210829B 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: 周生学;焦丽颖 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: C30B29/46 分类号: C30B29/46;C30B25/18
代理公司: 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 代理人: 郑久兴
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种大面积(本文定义为边长300μm以上)MoS2单层单晶及制备方法,其中,一种单层单晶MoS2的制备方法,包括:将氧源、钼源和硫源置入管式炉;将所述管式炉内的温度升温至第一预设温度,恒温第一预设时间后,将所述管式炉内的温度降至室温,获得大面积MoS2单层单晶。本申请提供的制备方法,通过筛选有效的氧源提供适量的氧气,以促进钼与硫简捷、高效、快速地形成大面积的单层单晶MoS2
搜索关键词: 一种 单层 mos base sub
【主权项】:
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