[发明专利]一种单色渐变膜及其制备方法、光罩在审
申请号: | 202011124213.7 | 申请日: | 2020-10-20 |
公开(公告)号: | CN112198757A | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 王弦;刘春华;张朱明 | 申请(专利权)人: | 蓝思科技(长沙)有限公司 |
主分类号: | G03F1/76 | 分类号: | G03F1/76;G03F1/80 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王晓坤 |
地址: | 410100 湖南省长*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本申请公开了一种单色渐变膜及其制备方法,该方法包括提供一光罩,所述光罩上设有预设图案,预设图案包括多个面积不等的遮光点,遮光点在预设方向上呈连续渐变趋势;获得包括基底和干膜光阻的预处理基底,干膜光阻对应光罩上遮光点的间隙区域;在预处理基底的上表面形成厚度一致的薄膜,然后去除干膜光阻,得到单色渐变膜。本申请通过提供预设有预设图案光罩,以干膜光阻为介质,使基底上表面形成与预设图案一致的薄膜,薄膜由与遮光点面积一样的小薄膜区域组成,小薄膜区域的面积在预设方向上呈连续渐变趋势,从而产生渐变效果,又因为薄膜厚度一致,颜色是单一的,所以得到颜色单一且渐变的单色渐变膜。本申请还提供一种光罩。 | ||
搜索关键词: | 一种 单色 渐变 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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