[发明专利]一种铁电场效应晶体管存储器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011124823.7 申请日: 2020-10-20
公开(公告)号: CN112259552A 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 廖敏;杨棋钧;李华山;孙智杰;曾斌建;周益春 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: H01L27/1159 分类号: H01L27/1159;H01L21/28;H01L29/49;H01L29/51
代理公司: 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 代理人: 陈超
地址: 411100 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 一种铁电场效应晶体管存储器及其制备方法,铁电场效应晶体管存储器包括:衬底;晶体管栅极结构,晶体管栅极结构设于衬底的表面,包括自下而上依次层叠设置的绝缘层、铁电层和栅电极层;衬底上形成有源极和漏极,且晶体管栅极结构位于源极和漏极之间;源极、栅电极层和漏极上分别连接有金属引线。通过铁电场效应晶体管中的硅化物栅电极对氧化铪基薄膜铁电相的诱导,以提高铁电性,且硅化物栅电极和氧化铪基薄膜能够形成良好的界面从而降低界面缺陷。
搜索关键词: 一种 电场 效应 晶体管 存储器 及其 制备 方法
【主权项】:
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