[发明专利]图像传感器形成方法及图像传感器在审

专利信息
申请号: 202011128879.X 申请日: 2020-10-21
公开(公告)号: CN114388536A 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 杨瑞坤 申请(专利权)人: 格科微电子(上海)有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种图像传感器形成方法及图像传感器,所述图像传感器形成方法包括以下步骤:提供半导体衬底;在所述半导体衬底预定位置形成侧向PN结构;于所述侧向PN结构上表面,选择性生长P型外延层,以在所述侧向PN结构上表面形成钉扎层。本发明通过采用选择性外延工艺形成钉扎层,省去了离子注入工序,减少因离子注入工艺对光电二极管表面的破坏而产生的缺陷,节省了工艺步骤,并提高晶圆级图像传感器制备的光性能均匀性,减少噪点;通过将栅极结构部分覆盖钉扎层的设计,形成侧向寄生电场,增强开关特性。
搜索关键词: 图像传感器 形成 方法
【主权项】:
暂无信息
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