[发明专利]一种东莨菪苷印迹整体柱的制备方法在审
申请号: | 202011129785.4 | 申请日: | 2020-10-21 |
公开(公告)号: | CN112275266A | 公开(公告)日: | 2021-01-29 |
发明(设计)人: | 黄艳萍;张雪;杨建;刘照胜;阿吉艾克拜尔·艾萨 | 申请(专利权)人: | 中国科学院新疆理化技术研究所 |
主分类号: | B01J20/26 | 分类号: | B01J20/26;B01J20/285;C08F222/14;C08F220/28;C08F226/06;C08J9/26 |
代理公司: | 乌鲁木齐中科新兴专利事务所(普通合伙) 65106 | 代理人: | 张莉 |
地址: | 830011 新疆维吾尔*** | 国省代码: | 新疆;65 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种东莨菪苷印迹整体柱的制备方法,该方法以东莨菪苷为模板分子,4‑乙烯基吡啶为功能单体,低聚(乙二醇)甲醚甲基丙烯酸酯为大分子亲水单体,离子液体1‑丁基‑3‑甲基咪唑四氟硼酸盐作为致孔剂,金属离子为支点进行组装,通过金属桥配位作用将单体规则的定位在模板周围,大大限制了单体或模板的相互作用。利用分子印迹固相萃取技术对东莨菪苷粗提物进行分离纯化研究。引进大分子亲水单体并采用金属离子乙酸镍作为桥接剂,东莨菪苷为模板分子合成分子印迹聚合物,金属离子和大分子亲水单体的存在可以使模板分子与印迹空穴的结合具有高度的专一性,提高MIPs的印迹效果。该聚合物对东莨菪苷的印迹因子为2.53。 | ||
搜索关键词: | 一种 莨菪 印迹 整体 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院新疆理化技术研究所,未经中国科学院新疆理化技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011129785.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:花生烤制生产线
- 下一篇:一种电网应急体系的评估数据处理方法、装置和介质