[发明专利]一种东莨菪苷印迹整体柱的制备方法在审

专利信息
申请号: 202011129785.4 申请日: 2020-10-21
公开(公告)号: CN112275266A 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 黄艳萍;张雪;杨建;刘照胜;阿吉艾克拜尔·艾萨 申请(专利权)人: 中国科学院新疆理化技术研究所
主分类号: B01J20/26 分类号: B01J20/26;B01J20/285;C08F222/14;C08F220/28;C08F226/06;C08J9/26
代理公司: 乌鲁木齐中科新兴专利事务所(普通合伙) 65106 代理人: 张莉
地址: 830011 新疆维吾尔*** 国省代码: 新疆;65
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摘要: 发明涉及一种东莨菪苷印迹整体柱的制备方法,该方法以东莨菪苷为模板分子,4‑乙烯基吡啶为功能单体,低聚(乙二醇)甲醚甲基丙烯酸酯为大分子亲水单体,离子液体1‑丁基‑3‑甲基咪唑四氟硼酸盐作为致孔剂,金属离子为支点进行组装,通过金属桥配位作用将单体规则的定位在模板周围,大大限制了单体或模板的相互作用。利用分子印迹固相萃取技术对东莨菪苷粗提物进行分离纯化研究。引进大分子亲水单体并采用金属离子乙酸镍作为桥接剂,东莨菪苷为模板分子合成分子印迹聚合物,金属离子和大分子亲水单体的存在可以使模板分子与印迹空穴的结合具有高度的专一性,提高MIPs的印迹效果。该聚合物对东莨菪苷的印迹因子为2.53。
搜索关键词: 一种 莨菪 印迹 整体 制备 方法
【主权项】:
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