[发明专利]基于半导体缺陷检测的图像处理方法、装置、设备及介质在审

专利信息
申请号: 202011130171.8 申请日: 2020-10-21
公开(公告)号: CN111968119A 公开(公告)日: 2020-11-20
发明(设计)人: 毛淇;刘竞博;吕赐兴;朱云龙 申请(专利权)人: 季华实验室
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06T5/50;G06T5/10;G06T5/00;G06F17/16
代理公司: 深圳中创智财知识产权代理有限公司 44553 代理人: 文言;田宇
地址: 528200 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及数据处理领域,提供了一种基于半导体缺陷检测的图像处理方法、装置、设备及介质,该方法包括获取的半导体全频段内部结构图像集,从内部结构图像集中选取频段不同的图像作为源图像;对源图像进行处理得到高通图像块及低通图像块,对低通图像块转换得到低通向量,对低通向量进行编码得到对应的稀疏系数向量,对所有稀疏系数向量进行融合处理得到低通融合向量;对高通图像块转换得到高通向量,根据高通向量与低通向量构建每张源图像的向量集,对所有向量集进行融合处理得到全通融合向量;将低通融合向量与全通融合向量进行重构得到目标向量,将目标向量转换成目标图像。本发明能够提升半导体成像的清晰度,以提升半导体缺陷检测精度。
搜索关键词: 基于 半导体 缺陷 检测 图像 处理 方法 装置 设备 介质
【主权项】:
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