[发明专利]一种紫外LED的外延生长方法有效
申请号: | 202011135542.1 | 申请日: | 2020-10-21 |
公开(公告)号: | CN112259648B | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
发明(设计)人: | 徐平;刘康;龚彬彬 | 申请(专利权)人: | 湘能华磊光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32;C23C16/52;C23C16/44;C23C16/34 |
代理公司: | 长沙七源专利代理事务所(普通合伙) 43214 | 代理人: | 张勇;刘伊旸 |
地址: | 423038 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本申请公开了一种紫外LED的外延生长方法,依次包括:处理衬底、生长低温GaN缓冲层、生长不掺杂GaN层、生长掺杂Si的N型GaN层、生长多量子阱发光层、生长AlGaN电子阻挡层、生长掺杂Mg的P型GaN层,降温冷却,其中生长多量子阱发光层依次包括所述;所述生长多量子阱发光层依次包括:生长AlGaN层、生长GaN层、生长InGaN阱层、Mg渐变掺杂AlGaN层以及生长GaN垒层的步骤。本发明方法解决现有LED外延生长中存在的LED发光效率较低的问题,以满足紫外LED的应用需要,同时降低工作电压,减少LED发光波长的蓝移量,增强抗静电能力。 | ||
搜索关键词: | 一种 紫外 led 外延 生长 方法 | ||
【主权项】:
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