[发明专利]一种管内气相沉积设备进气装置有效
申请号: | 202011136135.2 | 申请日: | 2020-10-22 |
公开(公告)号: | CN112359345B | 公开(公告)日: | 2023-03-07 |
发明(设计)人: | 俞佳宾;李凡;眭立洪;施国棋;王龙飞 | 申请(专利权)人: | 江苏永鼎光纤科技有限公司;江苏永鼎股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/54;C23C14/56 |
代理公司: | 苏州知途知识产权代理事务所(普通合伙) 32299 | 代理人: | 马刚强 |
地址: | 215200 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本申请涉及一种管内气相沉积设备进气装置,包括一端连接气柜的进气管和一端连接卡盘的反应管,反应管的另一端套设在所述进气管的另一端外侧,所述进气管和反应管之间设有弹性密封件,弹性密封件外壁与所述反应管内壁间密封,所述弹性密封件内壁与所述进气管外壁间留有间隙,还包括真空密封组件,真空密封组件包括套设在所述弹性密封件外侧的真空密封件主体,真空密封件主体上开设有高纯气体进气口、抽真空进气口、抽真空排气口和空气进气口。本发明的管内气相沉积设备进气装置,通过在机床卡盘和气柜间增加一套密封装置,采用抽真空原理,利用气体实现密封,解决了旋转密封的问题,使用气体密封代替磁液密封或航空脂,成本低。 | ||
搜索关键词: | 一种 管内气相 沉积 设备 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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