[发明专利]一种用于阵列传感器的二维卷积降噪方法在审

专利信息
申请号: 202011136323.5 申请日: 2020-10-22
公开(公告)号: CN112307424A 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 于永爱;姚志湘;粟晖;陈娟;方凤 申请(专利权)人: 上海如海光电科技有限公司
主分类号: G06F17/15 分类号: G06F17/15;G06F17/16;G01J3/28
代理公司: 北京君泊知识产权代理有限公司 11496 代理人: 王程远
地址: 200135 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种用于阵列传感器的二维卷积降噪方法,包括,获取阵列传感器的响应值,以反映光谱波长或波数的数据h的方向为横向,以波长所对应的光谱响应值g的方向为纵向,得到尺寸为g×h的矩阵A;所述阵列传感器包括线阵列传感器和面阵列传感器;分别选择所述横向的横向滤波向量HB和所述纵向的纵向滤波向量ZB,将所述横向滤波向量HB和纵向滤波向量ZB相乘,得到卷积矩阵B;根据步骤1得到的矩阵A,将矩阵A扩展处理为矩阵AE,然后计算矩阵AE和步骤2得到的矩阵B的二维卷积,得到矩阵C;所述矩阵C的计算公式为:C=conv2(AE,B);将矩阵C的横向和纵向进行切除处理保留余下的g×h个元素,作为降噪处理结果。
搜索关键词: 一种 用于 阵列 传感器 二维 卷积 方法
【主权项】:
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