[发明专利]一种基于二次拟合模型的标准单元库构建方法在审

专利信息
申请号: 202011142257.2 申请日: 2020-10-22
公开(公告)号: CN112257361A 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 闫浩;王梓齐;付文杰;金蕾蕾;宋慧滨 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: G06F30/3308 分类号: G06F30/3308
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 代理人: 沈廉
地址: 211189 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开并保护了一种基于二次拟合模型的标准单元库构建方法,在标准单元延迟模型中引入工艺波动随机变量,通过统计静态时序分析量化工艺波动对延迟的影响,进而通过二次迭代方法对单元延迟进行建模,构建标准单元统计库。在单元层中,本发明首先设置多个工作条件场景,将在不同工作条件下SPICE仿真获得的单元延迟作为训练数据,对电路单元的延迟分布进行建模,并通过二次非线性回归建立单元延迟关于工作条件的二次模型;将工艺参数波动视为遵循高斯分布的随机变量,通过二次拟合方法形成单元延迟模型,应用多元牛顿迭代法来拟合延迟模型系数关于工作条件的多元函数;对SMIC28nm工艺下的不同的标准单元重复上述流程,构建标准单元统计库。
搜索关键词: 一种 基于 二次 拟合 模型 标准 单元 构建 方法
【主权项】:
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