[发明专利]基板处理装置和基板处理方法有效

专利信息
申请号: 202011144145.0 申请日: 2016-06-03
公开(公告)号: CN112255889B 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 林圣人;野口耕平;饭塚建次;饭田成昭 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;徐飞跃
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供在包括多个流体供给路径的基板处理装置中,当检测流过各供给路径的流体所包含的异物时能够防止装置的大型化和制造成本上升的技术。该基板处理装置包括:测定用的流路部,其为要供给到基板的流体的多个供给路径各自的一部分,构成流体中的异物的测定区域,彼此排成列地设置;光照射部,共用于上述多个流路部,用于在上述流路部形成光路;移动机构,为了在上述多个流路部中所选择的流路部内形成光路,使上述光照射部沿着上述流路部的排列方向相对移动;受光部,包括用于接收透射上述流路部的光的受光元件;和检测部,用于基于从上述受光元件输出的信号检测上述流体中的异物。由此,能够减小必要的光照射部的数量,并实现装置的缩小化。
搜索关键词: 处理 装置 方法
【主权项】:
暂无信息
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