[发明专利]一种耐伽马照射材料及其制备方法在审
| 申请号： | 202011145411.1 | 申请日： | 2020-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN112251016A | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 王贵超;曾弟明;鞠慧萍;宋艳超;钱卫平 | 申请（专利权）人： | 苏州中核华东辐照有限公司 |
| 主分类号： | C08L75/08 | 分类号： | C08L75/08;C08L25/18;C08K13/04;C08K7/26;C08K3/04;C08K5/18;C08K5/39 |
| 代理公司： | 上海微策知识产权代理事务所(普通合伙) 31333 | 代理人： | 张静 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种耐伽马照射材料及其制备方法，按重量份计，包括高分子聚合物80‑150份，抗静电剂0.1‑1份，抗氧剂0.1‑1份，光稳定剂0.5‑5份，填料1‑5份，其他助剂0.1‑3份；所述高分子聚合物由聚醚多元醇与异氰酸酯反应得到。本发明中的耐伽马照射材料解决了一般材料经伽马射线照射后，丧失应有的使用性能的问题，具有防静性、防辐射性，且环保性能好，经伽马射线照射后仍具有良好的刚韧平衡性能，物理机械性能、化学性能、耐辐射性能。本发明中通过稳定材料在经过伽马辐照射后产生的自由基，从而使得该耐伽马照射材料在经过伽马射线照射后仍有很好的力学性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 耐伽马 照射 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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