[发明专利]二进制程序过程间静态污点分析方法及系统有效
| 申请号： | 202011151815.1 | 申请日： | 2020-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN112016099B | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | 黄晖;陆余良;黄曙光;赵顺恺;甘桂华;赵军;钟晓峰;卢灿举 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号： | G06F21/57 | 分类号： | G06F21/57 |
| 代理公司： | 中国和平利用军工技术协会专利中心 11215 | 代理人： | 刘光德 |
| 地址： | 410073 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明的二进制程序过程间静态污点分析方法及系统，包括：二进制控制结构分析模块、到达定值分析模块和污点传播分析模块，其中，二进制控制结构分析模块计算预设目标程序的控制结构视图；到达定值分析模块基于所述控制结构视图，运算出目标程序内各个程序点的到达定值状态；污点传播模块按照所运算出的到达定值状态，计算出目标程序内各个程序点的污点状态。本发明依托于统一的上下文敏感、流敏感的过程间静态分析框架定制具体的分析算法；通过到达定值分析获取运行时各个机器位置对应的定值集合，提升间接跳转、指针别名的解析精度；在此基础上构建静态过程间污点分析引擎，由此提供针对二进制程序的静态全路径污点传播分析能力手段。 | ||
| 搜索关键词： | 二进制 程序 过程 静态 污点 分析 方法 系统 | ||
【主权项】：
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