[发明专利]一种实现高性能结构色的单晶硅超表面及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011151927.7 申请日: 2020-10-23
公开(公告)号: CN112346151A 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 肖淑敏;杨文宏;宋清海;蔡定平 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学(深圳);香港理工大学
主分类号: G02B1/00 分类号: G02B1/00;G02B5/00
代理公司: 深圳市添源知识产权代理事务所(普通合伙) 44451 代理人: 黎健任
地址: 518000 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种实现高性能结构色的单晶硅超表面,包括氧化铝基底和位于所述氧化铝基底上的单晶硅超表面,所述氧化铝基底和单晶硅超表面由折射率匹配层封装。本发明还提供了一种实现高性能结构色的单晶硅超表面的制备方法。本发明的有益效果是:提供了一种实现高性能结构色的单晶硅超表面,利用折射率匹配层,可以同时实现广色域、高亮度、高饱和度、高分辨率结构色,并且制备难度低,扩展和提高了结构色的应用价值。
搜索关键词: 一种 实现 性能 结构 单晶硅 表面 及其 制备 方法
【主权项】:
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