[发明专利]一种提高光阻图形线宽量测精度的方法有效
| 申请号： | 202011154107.3 | 申请日： | 2020-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN112230516B | 公开（公告）日： | 2023-06-13 |
| 发明（设计）人： | 高松;郭晓波;张聪 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/44 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种提高光阻图形线宽量测精度的方法，光罩上设有测试图形区，距离测试图形区边界1～30μm处设置图形辅助区；对晶圆进行曝光和显影晶圆上的测试图形区与图形辅助区的位置在光阻以下具有相同的薄膜堆叠；曝光显影后晶圆上的测试图形区由光阻图形构成，晶圆上的图形辅助区无光阻形成；利用光学测量机台对测试图形区及图形辅助区进行量测，收集测试图形区及图形辅助区的光谱数据并进行差分处理，解析只包含光阻图形的光谱，输出只包含光阻图形的线宽数据。本发明利用二者光谱差异确定光阻区只含有光阻图形的信息，能够准确的确定光刻层线宽，避免前层薄膜堆叠对光刻层线宽的影响，避免了不必要的误报警，提高生产能力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 图形 线宽量测 精度 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力集成电路制造有限公司，未经上海华力集成电路制造有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011154107.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种优化光刻聚焦的方法
- 下一篇：一种用于车用轮胎的胎壁裂缝检测装置
