[发明专利]基于关键指标算法的光刻机台效能评价系统及其应用方法在审

专利信息
申请号: 202011154696.5 申请日: 2020-10-26
公开(公告)号: CN112232578A 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 曹锋;钱春霞;徐秋晨;周菁;刘帆 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: G06Q10/04 分类号: G06Q10/04;G06Q10/06;G06Q50/04
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 戴广志
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供基于关键指标算法的光刻机台效能评价系统及其应用方法,提供光刻机台的生产源数据,将生产源数据通过数据处理模块处理后得到初始版本数据;基于初始版本数据得到多个关键指标;基于多个关键指标进行系统开发,包括:进行界面设计及其逻辑实现;进行接口项目的设计;创建服务程序并进行实现;创建宿主以及创建代理;光刻机台间效能利用排序。本发明设计关键指标的算法用来以更好的评估光刻机台利用效率,并将算法设计系统化,基于历史及当前数据对机台来货情况或机台状态进行预测,并实时监测机台当前跑货状况,有利于求得效能最优机台且得出各机台间效能利用排序,使光刻机台的效能评价达到精确化。
搜索关键词: 基于 关键 指标 算法 光刻 机台 效能 评价 系统 及其 应用 方法
【主权项】:
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