[发明专利]一种祛痘修复化妆品制剂及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202011154796.8 申请日: 2020-10-26
公开(公告)号: CN112043650B 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 乐玄晖;涂正松 申请(专利权)人: 佛山天韵化妆品科技有限公司
主分类号: A61K8/9789 分类号: A61K8/9789;A61K8/9767;A61K8/81;A61Q19/00;A61Q17/00;A61P17/10
代理公司: 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 代理人: 蔡义文
地址: 528000 广东省佛山市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种祛痘修复化妆品制剂及其制备方法。所述祛痘修复组合物主要含有:赤松(PINUS DENSSIFLORA)叶提取物、欧洲越桔(VACCINIUM MYRTILLUS)提取物、苦参(SOPHORA ANGUSTIFOLIA)根提取物、母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物。能够有效抑制痤疮丙酸杆菌的活性,控制油脂过度分泌,对于因长痘而造成的肌肤受损起到一定的修复作用。将其作为活性成分添加到化妆品可起到良好的祛痘修复功效。
搜索关键词: 一种 修复 化妆品 制剂 及其 制备 方法
【主权项】:
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