[发明专利]形成微电子装置的方法以及相关微电子装置和电子系统

摘要

本申请涉及形成微电子装置的方法，并且涉及相关微电子装置和电子系统。一种形成微电子装置的方法包括形成包括绝缘结构和与所述绝缘结构竖直交替的另外的绝缘结构的堆叠结构。孔被形成为在所述堆叠结构内以彼此不同的深度延伸到所述绝缘结构的表面。在所述孔内形成介电内衬结构。在所述孔的未被所述介电内衬结构占据的部分内形成牺牲结构。用加帽结构替换所述牺牲结构的上部部分。用导电材料替换所述绝缘结构的部分和所述牺牲结构的剩余部分。还描述了微电子装置和电子系统。