[发明专利]一种版图获取方法及装置在审
| 申请号： | 202011155565.9 | 申请日： | 2020-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN112257701A | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 马乐;韦亚一;张利斌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G06K9/20 | 分类号： | G06K9/20;G06K9/38;G06K9/40;G06K9/46;G06K9/62 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 柳虹 |
| 地址： | 100029 北京市朝阳*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例公开了一种版图获取方法及装置，在获取利用扫描电镜对刻蚀图形进行扫描得到的初始图像后，由于初始图像具有刻蚀图形的特征，可以利用初始图像进行刻蚀图形的版图的预测，具体的，可以对初始图像进行轮廓提取，得到刻蚀图形的轮廓信息，初始图像可以具有用来表征刻蚀图形尺寸的标尺，这样利用刻蚀图形的轮廓信息和初始图像的标尺，可以生成刻蚀图形对应的具有尺寸和图形轮廓特征的预测版图，生成的预测版图能够准确体现刻蚀图形的实际特性，准确的预测版图利于对刻蚀图形的分析，或者进一步可以将生成的预测版图与实际的原始版图进行比较，从而对刻蚀过程进行分析。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 版图 获取 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所，未经中国科学院微电子研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011155565.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
