[发明专利]GaN功率器件结构、结温测试装置和方法有效

专利信息
申请号: 202011156048.3 申请日: 2020-10-26
公开(公告)号: CN112420806B 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 贺致远;陈义强;陈媛;路国光;黄云;恩云飞 申请(专利权)人: 中国电子产品可靠性与环境试验研究所((工业和信息化部电子第五研究所)(中国赛宝实验室))
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/778;G01R31/26
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 缪成珠
地址: 511300 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请涉及半导体技术领域,具体公开一种GaN功率器件结构、结温测试装置和方法。GaN功率器件结构包括GaN基异质结构、欧姆接触电极以及肖特基接触电极。欧姆接触电极包括设置于所述GaN基异质结构上的栅极、源极以及漏极;肖特基接触电极设置于所述GaN基异质结构上,且位于所述栅极与所述源极之间,所述肖特基接触电极与所述源极分别构成肖特基二极管的两极。通过改进GaN功率器件结构,并通过结温测试方法能够实现对GaN功率器件结温的测试,并获得GaN功率器件的结温信息,进而为对GaN功率器件的工作寿命的预估提供测试数据。
搜索关键词: gan 功率 器件 结构 测试 装置 方法
【主权项】:
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