[发明专利]机械研磨润滑液、包含其的水基研磨抛光液及其应用在审
| 申请号： | 202011159873.9 | 申请日： | 2020-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN112342077A | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | 程波;陈卓 | 申请（专利权）人： | 天津嘉宇合电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C10M173/02 | 分类号： | C10M173/02;C09G1/02;C10N30/06;C10N30/04 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 刘桐亚 |
| 地址： | 300000 天津市东丽*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种机械研磨润滑液、包含其的水基研磨抛光液及其应用，涉及机械研磨技术领域。所述机械研磨润滑液主要由摩擦改进剂、分散剂、增稠剂、防锈剂、抗泡剂、杀菌剂以及任选的抗氧剂和pH调节剂按特定比例复配得到，通过上述机械研磨润滑液中各原料的协同复配，制得的机械研磨润滑液具有优异的润滑性和助悬性能，可以应用于各种金属材料的润滑作业，同时该机械研磨润滑液不含强酸，强碱及芳香烃等有害成分，安全环保。本申请通过将上述机械研磨润滑液与磨料粉体进行复配制得的水基研磨抛光液，经验证具有优异的润滑性、冷却性、清洗性、防锈性可显著提高被加工材料的表面光洁度，同时安全环保。 | ||
| 搜索关键词： | 机械 研磨 润滑 包含 抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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