[发明专利]副像偏离值测量方法及装置、刻度盘和靶式光源仪在审
| 申请号： | 202011161262.8 | 申请日： | 2020-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN112362308A | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 庞世红;韩磊;刘海涛;石琳;李博野 | 申请（专利权）人： | 中国建材检验认证集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 张晓萍;刘铁生 |
| 地址： | 100024 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种副像偏离值测量方法及装置、刻度盘和靶式光源仪。所述方法包括以下步骤：1)将刻度盘与被测玻璃以一定距离安装于暗室内；2)在被测玻璃上确定若干测量点；将被测玻璃以实车角度安装；3)在水平方向内转动被测玻璃使观察方向与被测玻璃在竖直平面内的投影垂直；4)透过被测玻璃观察光源的副像并读取副像偏离值；5)观察者位置移动以改变被测量点，按照步骤3)和4)完成所有测量点的副像偏离值测量。所要解决的技术问题是快速、准确定量测量玻璃副像偏离值，既克服了靶试验法无法准确定量的缺点，又克服了准直望远镜仪法检测效率很低的缺点；该方法设备结构简化，安全风险低，检测效率高，简单易行，从而更加适于实用。 | ||
| 搜索关键词： | 偏离 测量方法 装置 刻度盘 光源 | ||
【主权项】：
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