[发明专利]一种EUV光源锡靶液滴发生装置在审
| 申请号： | 202011162486.0 | 申请日： | 2020-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN112272426A | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 胡亮;宋光敏;方言燊;付新 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | H05B6/80 | 分类号： | H05B6/80;G03F7/20 |
| 代理公司： | 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 | 代理人： | 朱亚冠 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种EUV光源锡靶液滴发生装置。本发明熔池容纳于腔体内，熔池内容纳锡料；向熔池内供给压力气体使腔内压力保持对外部环境的正压；所述的腔体底部设置喷孔，喷孔的直径在1微米至1000微米范围内；所述的微波源设置于腔体内部和熔池外部；所述的激振元件设置在熔池内，用于对喷孔附近的锡料施加振动扰动；在熔池内部设置红外温度传感器监测锡料的温度。具有加热速度快，加热均匀，能耗低的优点；不需要额外配备锡料预熔和输送装置，同时降低了污染锡料的风险；避免了热电偶等传感器在微波环境中可能出现的打火风险；避免微波作用于锡料产生打火现象。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 euv 光源 锡靶液滴 发生 装置 | ||
【主权项】：
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