[发明专利]半导体装置及其制造方法在审
申请号: | 202011164681.7 | 申请日: | 2020-10-27 |
公开(公告)号: | CN112786582A | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 梁在完;金旴泰;金亨沃;朴尚度;西门浚 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L23/50;H01L23/52;G11C5/02;G11C5/06;G11C5/14 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 李娜;王占杰 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 公开了半导体装置和制造半导体装置的方法。所述方法包括:对标准单元进行布局;调整电源通路图案的尺寸,以使所述电源通路图案的宽度不同于其他通路图案的宽度;和将不同的设计规则分别应用于所述电源通路图案和所述其他通路图案,以对所述标准单元执行布线操作。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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