[发明专利]化学气相沉积反应腔在审
申请号: | 202011165028.2 | 申请日: | 2020-10-27 |
公开(公告)号: | CN112176324A | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
发明(设计)人: | 吴铭钦;刘峰 | 申请(专利权)人: | 苏州雨竹机电有限公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/458;C23C16/44 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 王富强 |
地址: | 215000 江苏省苏州市中国(江苏)自由*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明所提供的化学气相沉积反应腔,为一种面下型(Face Down)反应腔,能使基板(晶圆)以反应面朝下的方式与反应气体进行接触,让粉尘因为重力关往下沉降而不容易附着于基板的反应面,以改善因粉尘飘散而造成的良率损失问题。其次,而为了达到高产能力,本发明在化学气相沉积反应腔之中设置便于自动化生产作业的基板承载装置,以使基板的放置、收取更为便捷,进而达到高产量能力的效果。再者,基板承载装置还能导入气浮气体,以使基板悬浮与旋转,让基板的受热效果更为均匀与精确,进而改善基板成膜效果更不均的问题。 | ||
搜索关键词: | 化学 沉积 反应 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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