[发明专利]半导体器件及其形成方法、图像传感器

摘要

本发明提供一种半导体器件及其形成方法、图像传感器。半导体器件的形成方法包括：提供衬底，在所述衬底的一侧表面形成密集分布的倒梯形沟槽；对所述衬底进行无掩膜刻蚀和/或无掩膜离子注入的前处理，使所述倒梯形沟槽的表面变粗糙；将变粗糙的所述倒梯形沟槽的表面进行酸法刻蚀，以在变粗糙的所述倒梯形沟槽的表面形成绒面结构。密集分布的倒梯形沟槽在衬底表面构成“大绒面”结构，扩展了硅片内的光路长度，有效光程长度随着在硅片中延长，增加了光的吸收效率。所述倒梯形沟槽的表面形成绒面结构，为“小绒面”结构，进一步增加了光在衬底内部的反射次数，大大提高器件的量子效率。