[发明专利]阵列基板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011171343.6 申请日: 2020-10-28
公开(公告)号: CN112271185A 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 艾飞;舒照伟 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 远明
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请公开了一种阵列基板,阵列基板的显示区包括多个第一薄膜晶体管组件和多个第二薄膜晶体管组件,第一薄膜晶体管组件包括至少一个多晶硅薄膜晶体管,第二薄膜晶体管组件包括至少一个非晶氧化物半导体薄膜晶体管;多个第一薄膜晶体管组件和第二薄膜晶体管组件在显示区交替分布。本申请实施例提供的阵列基板,通过在阵列基板显示区采用第一薄膜晶体管组件和和第二薄膜晶体管组件交替设置,而第一薄膜晶体管组件包括至少一个多晶硅薄膜晶体管,第二薄膜晶体管组件包括至少一个非晶氧化物半导体薄膜晶体管;两者交替设置在阵列基板的显示区,可以同时实现高频驱动和降低阵列基板的功耗。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法
【主权项】:
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