[发明专利]垫调节器及化学机械抛光方法在审
| 申请号： | 202011178462.4 | 申请日： | 2020-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN112743449A | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 申宪桦;匡训冲 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/24 | 分类号： | B24B37/24;B24B37/34;B24B37/005;B24B49/00;H01L21/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 薛恒;王琳 |
| 地址： | 中国台湾新竹科学工业园区新*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种用于调节抛光垫的抛光表面的垫调节器包括调节盘、盘固持器及盘臂。调节盘包括衬底板及至少两个研磨段。调节盘包括至少一个通道，碎屑及废浆料可通过所述至少一个通道排出。研磨段位于衬底板的表面上，且在其间形成至少一个通道段。每一通道段从所述表面的中心周围实质上延伸到衬底板的外边沿。调节盘所安装到的盘固持器包括贯通孔。调节盘所安装到的盘臂包括通过贯通孔与所述至少一个通道段流体连通的开口，以用于通过真空模块排出碎屑及废浆料。 | ||
| 搜索关键词： | 调节器 化学 机械抛光 方法 | ||
【主权项】：
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