[发明专利]一种IGBT器件背面保护环结构在审

专利信息
申请号: 202011178851.7 申请日: 2020-10-29
公开(公告)号: CN112133742A 公开(公告)日: 2020-12-25
发明(设计)人: 罗景涛;严可为 申请(专利权)人: 西安众力为半导体科技有限公司
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/06
代理公司: 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 代理人: 王营超
地址: 710077 陕西省西安市*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种IGBT器件背面保护环结构,包括划片道和漂移区,所述划片道内侧设有终端保护结构,终端保护结构内部分别设有N型短路区和P型集电区,漂移区顶部两侧分别设有第一P型掺杂保护终端和第二P型掺杂保护终端,第一P型掺杂保护终端和第二P型掺杂保护终端中间分别设有P型掺杂集电区和N型掺杂逆导短路区。本IGBT器件背面保护环结构,在不增加器件制作成本的前提下,将原来制作于IGBT器件正面的保护性器件结构,即保护环或终端,转移到器件的背面去实现,非常有效和综合地利用了半导体芯片的正反两面,能够在同等面积情况下,达到具有更大的器件导通电流,电特性表现上增强,扩大了发射区面积的效果。
搜索关键词: 一种 igbt 器件 背面 保护环 结构
【主权项】:
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