[发明专利]一种IGBT器件背面保护环结构在审
申请号: | 202011178851.7 | 申请日: | 2020-10-29 |
公开(公告)号: | CN112133742A | 公开(公告)日: | 2020-12-25 |
发明(设计)人: | 罗景涛;严可为 | 申请(专利权)人: | 西安众力为半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06 |
代理公司: | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人: | 王营超 |
地址: | 710077 陕西省西安市*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种IGBT器件背面保护环结构,包括划片道和漂移区,所述划片道内侧设有终端保护结构,终端保护结构内部分别设有N型短路区和P型集电区,漂移区顶部两侧分别设有第一P型掺杂保护终端和第二P型掺杂保护终端,第一P型掺杂保护终端和第二P型掺杂保护终端中间分别设有P型掺杂集电区和N型掺杂逆导短路区。本IGBT器件背面保护环结构,在不增加器件制作成本的前提下,将原来制作于IGBT器件正面的保护性器件结构,即保护环或终端,转移到器件的背面去实现,非常有效和综合地利用了半导体芯片的正反两面,能够在同等面积情况下,达到具有更大的器件导通电流,电特性表现上增强,扩大了发射区面积的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 igbt 器件 背面 保护环 结构 | ||
【主权项】:
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