[发明专利]阵列基板及其制造方法

摘要

本发明提供一种阵列基板及其制造方法，制造方法包括如下步骤：S1、在玻璃基板上沉积第一金属层，对第一金属层进行曝光显影和刻蚀形成位于外围区域的第一信号走线和位于显示区域的第一信号走线；S2、沉积覆盖第一金属层的第一绝缘层；S3、对第一绝缘层进行刻蚀并刻蚀掉位于显示区域的第一绝缘层，露出显示区域的第一信号走线；S4、沉积第二金属层，对第二金属层进行曝光显影和刻蚀，去除位于显示区域内第一信号走线刻蚀、并形成扫描线和与扫描线连接的栅极。本发明不仅保证了外围区域信号走线的均一性，同时在不增加光罩的情况下，克服了现有技术中寄生电容的可能性，保证了开口率，获得了高质量的窄边框阵列基板。