[发明专利]一种低选择性的BPSG和PETEOS薄膜的蚀刻液有效
| 申请号： | 202011181031.3 | 申请日： | 2020-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN112410036B | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 张庭;贺兆波;郝晓斌;李鑫;万杨阳;王书萍 | 申请（专利权）人： | 湖北兴福电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08;C09K13/10;H01L21/311 |
| 代理公司： | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人： | 成钢 |
| 地址： | 443007 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低选择性的BPSG和PETEOS薄膜的蚀刻液，主要成分包括氢氟酸、有机溶剂、含氟化合物、胺类。本发明的蚀刻液中氢氟酸用于蚀刻BPSG和PETEOS薄膜；有机溶剂用于降低蚀刻液对BPSG和PETEOS薄膜的蚀刻速率，使蚀刻反应易于控制；含氟化合物作为氟离子缓释剂，提供氟离子，稳定蚀刻液的蚀刻速率和延长蚀刻液的使用寿命；胺类用于降低BPSG薄膜的蚀刻速率，使BPSG和PETEOS薄膜的蚀刻速率选择比接近于1。本发明所述的蚀刻液能够使BPSG和PETEOS薄膜的蚀刻速率选择比稳定在1.1±0.2。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 选择性 bpsg peteos 薄膜 蚀刻 | ||
【主权项】：
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