[发明专利]一种TADF发光分子发光性能的高通量预测方法有效
| 申请号： | 202011181452.6 | 申请日： | 2020-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN112185478B | 公开（公告）日： | 2022-05-31 |
| 发明（设计）人： | 谭筝;史卫梅;杨仕清 | 申请（专利权）人： | 成都职业技术学院 |
| 主分类号： | G16C20/20 | 分类号： | G16C20/20;G06N3/08;G06N3/04 |
| 代理公司： | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人： | 胡川 |
| 地址： | 610299 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种TADF发光分子发光性能的高通量预测方法，该方法对满足预设光电性能条件的分子给体、分子受体以及分子连接体进行虚拟合成得到TADF发光分子，将部分TADF发光分子作为样本分子，将样本分子的分子结构转换成ECFP分子指纹，使用基于深度神经网络的回归模型对样本分子的分子特征和发光性能进行训练，并使用训练好的回归模型对所有TADF发光分子发光性能进行预测，最后选择预设发光性能阀值，对TADF发光分子进行筛选，筛选出的TADF发光分子作为实验合成对象。本发明能够很大程度的减少TADF发光分子设计的周期和成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 tadf 发光 分子 性能 通量 预测 方法 | ||
【主权项】：
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