[发明专利]光刻显影的方法在审
| 申请号： | 202011185746.6 | 申请日： | 2020-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN112327584A | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 贺晓彬;张青竹;李博;刘金彪;张兆浩;李亭亭;李俊峰;杨涛 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人： | 金铭 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻工艺技术领域，具体涉及一种光刻显影的方法光刻显影的方法，包括以下步骤：在晶圆上涂敷光刻胶并对光刻胶进行曝光；然后对晶圆进行显影；控制晶圆旋转，并对显影处理后的晶圆进行冲洗；将冲洗处理后的晶圆甩干；其中，在冲洗过程中，晶圆在预设时间内在第一转速和第二转速之间交替变化。将晶圆的转速进行了分段式交替变化，避免冲水过程中，晶圆的过高转速对光刻胶表面造成的损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 显影 方法 | ||
【主权项】：
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