[发明专利]真空镀膜设备的控制方法、控制系统和真空镀膜设备有效
申请号: | 202011186465.2 | 申请日: | 2020-10-29 |
公开(公告)号: | CN112458439B | 公开(公告)日: | 2023-03-10 |
发明(设计)人: | 左国军;梁建军;夏傲雪 | 申请(专利权)人: | 常州捷佳创精密机械有限公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C14/54;C23C14/52 |
代理公司: | 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 | 代理人: | 尚志峰;王淑梅 |
地址: | 213133 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提出了一种真空镀膜设备的控制方法、控制系统和真空镀膜设备。一种真空镀膜设备的控制方法包括:基于真空镀膜设备上电的情况下,检测转换腔内的第一压强值,根据第一压强值确定基准大气压强值;响应于预设控制指令,检测转换腔内的第二压强值;根据第二压强值和基准大气压强值,控制转换腔开腔,并检测转换腔内的第三压强值;根据第三压强值更新基准大气压强值。通过本发明提供的真空镀膜设备的控制方法,能够实时跟踪当前(每时每刻)的大气压变化,进而自动校准基准大气压开腔安全范围,有效解决了大气压误差变化大的影响,从而有效避免了产生碎片的情况,继而有效保证了产能。 | ||
搜索关键词: | 真空镀膜 设备 控制 方法 控制系统 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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