[发明专利]一种冷光源曝光机在审

专利信息
申请号: 202011192267.7 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN112180694A 公开(公告)日: 2021-01-05
发明(设计)人: 李健儿;冯永;胡仲波;敬春云;宋勇;王一超;李慕轩 申请(专利权)人: 四川上特科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 成都睿道专利代理事务所(普通合伙) 51217 代理人: 王小艳
地址: 629200 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 一种冷光源曝光机,包括支架、载片台、曝光机构和竖向调节机构,载片台水平固定于支架的下端,竖向调节机构用于调节曝光机构的高度,曝光机构包括紫外灯源、多面镜组、反光镜组、机械快门和罩壳,多面镜组和反光镜组均置于罩壳内,多面镜组包括若干呈环形均匀紧密布置的反光片,紫外灯源置于多面镜组的中心点位置处,反光镜组包括第一反光镜和第二反光镜,第一反光镜与第二反光镜平行对峙布置、并与水平方向呈夹角45°布置,第一反光镜置于紫外灯源正下方,机械快门横置于第一反光镜和第二反光镜之间,第二反光镜正下方还设有准直镜。其避免了曝光机载片台上热面积累积,提高了曝光效率,大大降低了紫外光的能量衰减,扩大了曝光面积。
搜索关键词: 一种 光源 曝光
【主权项】:
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