[发明专利]一种低温下获得的晶态立方三氧化二铝铬稳定结构涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 202011193963.X | 申请日： | 2020-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN112281115B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 杜昊;施杰;戴厚富;张泽 | 申请（专利权）人： | 贵州大学 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/35 |
| 代理公司： | 贵阳中新专利商标事务所 52100 | 代理人： | 胡绪东 |
| 地址： | 550025 贵州省贵*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种低温下获得的晶态立方三氧化二铝铬稳定结构涂层及其制备方法，属于涂层技术领域，该涂层使用高能脉冲磁控溅射沉积获得，涂层包括一种fcc‑(Al,Cr) |
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| 搜索关键词： | 一种 低温 获得 晶态 立方 氧化 二铝铬 稳定 结构 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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