[发明专利]一种缓冲结构及其制作方法、复合缓冲结构和显示装置有效
| 申请号： | 202011193983.7 | 申请日： | 2020-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN112201168B | 公开（公告）日： | 2023-08-25 |
| 发明（设计）人： | 黄军;张洋高;陈江;周瑞渊 | 申请（专利权）人： | 武汉天马微电子有限公司 |
| 主分类号： | G09F9/30 | 分类号： | G09F9/30;G09F9/35 |
| 代理公司： | 北京允天律师事务所 11697 | 代理人： | 魏金霞 |
| 地址： | 430040 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种缓冲结构及其制作方法、复合缓冲结构和显示装置，弹性主体层的至少一侧具有多个凹槽，且密封外壳至少密封弹性主体层具有凹槽的表面，使得凹槽为密封的凹槽，因此，当缓冲结构受到冲击时，不仅弹性主体层会通过弹性形变对冲击力进行缓冲，而且密封的凹槽以及密封在凹槽内的气体会进一步对冲击力进行缓冲，从而使得缓冲结构的抗冲击能力较强，进而使得缓冲结构能够满足多种应用场景下的抗冲击需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 缓冲 结构 及其 制作方法 复合 显示装置 | ||
【主权项】：
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