[发明专利]半导体工艺设备及其观察窗清洁方法有效
| 申请号： | 202011194923.7 | 申请日： | 2020-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN112430846B | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 赵海洋;郭雪娇 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C30B23/02 | 分类号： | C30B23/02;C30B29/36;B08B5/02 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;王婷 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种半导体工艺设备及其观察窗清洁方法，其中，该半导体工艺设备包括工艺腔室、坩埚和温度监测组件，坩埚设置在工艺腔室中，坩埚的顶部具有与坩埚的内腔连通的顶开口，工艺腔室的顶壁具有观察窗，温度监测组件用于透过观察窗和顶开口监测坩埚内部的温度，半导体工艺设备还包括观察窗吹扫组件，观察窗吹扫组件与观察窗对应设置，用于对观察窗的待吹扫面进行吹扫，待吹扫面为观察窗朝向坩埚的表面。在本发明中，工艺腔室内设置有观察窗吹扫组件，其能够向观察窗的表面吹扫气体，去除附着在观察窗表面上的料源颗粒，从而保证温度监测组件监测结果的准确性，保证晶圆在合适的温度范围内进行外延生长工艺，提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 工艺设备 及其 观察窗 清洁 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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