[发明专利]一种倒三角势垒的GaN基LED外延结构及其生长方法在审

专利信息
申请号: 202011195545.4 申请日: 2020-10-31
公开(公告)号: CN112436079A 公开(公告)日: 2021-03-02
发明(设计)人: 程立文;张曦晨;李侦伟;曾祥华;林星宇 申请(专利权)人: 扬州大学
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/06;H01L33/32;H01L33/00;B82Y40/00
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 邹伟红
地址: 225009 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种倒三角势垒的GaN基LED外延结构及其生长方法,该发光层由势垒层和量子阱层交替构成,其中,势垒层为GaN‑InxGa1‑xN‑GaN势垒层,简称为GIG势垒层,按生长顺序该势垒层依次由GaN势垒、InxGa1‑x N势垒和GaN势垒构成,InxGa1‑xN势垒中的x沿生长方向从0到0.1再到0渐变。本发明采用GIG倒三角形势垒结构代替传统LED的GaN势垒结构,势垒层中的InGaN材料的应用能够有效降低势垒与量子阱的极化电场,有效抑制量子斯塔克效应,同时本发明提出的特殊势垒形状并没有降低势垒的有效高度,倒三角形势垒仍然可以有效地限制载流子。
搜索关键词: 一种 三角 gan led 外延 结构 及其 生长 方法
【主权项】:
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