[发明专利]新型可记忆光刻机系统在审

专利信息
申请号: 202011199128.7 申请日: 2020-11-01
公开(公告)号: CN112198770A 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 杨清华
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 425300 *** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种新型的芯片电路生产工艺,本系统不需要通过输入EDA的电路设计图纸,可以通过记忆合格芯片的光刻路径来生产新的芯片,或者组合已经存储的光刻路径的电路功能来生产功能更强大的新芯片,系统具备强大的自主学习能力,芯片的制作将具有更强的灵活性和创造性。本系统控制光刻部件在晶圆上直接绘制电路,系统的光刻路径记忆部件会记忆绘制的整个过程,该芯片通过功能测试和质量检测成为合格的芯片后,本系统根据记忆就能够在新晶圆上绘制和生产出同样功能和质量的新芯片。本系统包括光源、光源移动控制、光刻路径记忆、光刻路径显示、晶圆和刻制光线校准、深度学习、综合控制和网络联接等8个主要组成部分。
搜索关键词: 新型 记忆 光刻 系统
【主权项】:
暂无信息
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