[发明专利]一种氧化铁/羟基氧化钴复合光电极及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202011203174.X 申请日: 2020-11-02
公开(公告)号: CN113293392B 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 熊贤强;张川群;张晓;褚雨潇;武承林;陈奕飞;周睿;马博华;程高飞;韩得满 申请(专利权)人: 台州学院;台州市生物医化产业研究院有限公司
主分类号: C25B1/04 分类号: C25B1/04;C25B1/55;C25B11/053;C25B11/091
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 马小星
地址: 318000 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种氧化铁/羟基氧化钴复合光电极及其制备方法和应用,属于功能材料技术领域。本发明的制备方法包括以下步骤:将可溶性铁盐、尿素和水混合,得到混合反应液;将基底浸没于混合反应液中,加热进行第一沉淀反应,得到负载有β‑FeOOH的基底;将负载有β‑FeOOH的基底在300~500℃条件下进行煅烧,得到负载有α‑Fe2O3的基底;将可溶性钴盐溶液滴涂在负载有α‑Fe2O3的基底的表面,干燥后浸没于碱性溶液中进行第二沉淀反应,得到氧化铁/羟基氧化钴复合光电极。本发明在低温条件下焙烧制备得到α‑Fe2O3,能耗低,通过引入CoOOH可以激活惰性的α‑Fe2O3,使其具有较好的光电催化水分解活性。
搜索关键词: 一种 氧化铁 羟基 氧化钴 复合 电极 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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