[发明专利]用于放射性去污的复合式纳秒激光去污装置及去污方法有效
| 申请号： | 202011208344.3 | 申请日： | 2020-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN112382428B | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 魏少翀;陈国星;吴树辉;陆海峰;马学英;刘成威;季骅;刘艺武;王博;黄骞;潘晨阳;邓春银;尹嵩;覃恩伟;朱青霞;叶林 | 申请（专利权）人： | 苏州热工研究院有限公司;中国广核集团有限公司;中国广核电力股份有限公司 |
| 主分类号： | G21F9/30 | 分类号： | G21F9/30;B08B7/00 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 吴芳 |
| 地址： | 215004 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于放射性去污的复合式纳秒激光去污装置及去污方法，协作去污方法包括以下步骤：驱动复合式纳秒激光去污装置的光学模组在待去污工件的上方作扫描式步进移动，相邻两次步进移动之间存在预设的时间间隔，每次步进移动之后，先启动高效纳秒激光器，并在运行第一时间段后停止，间隔第二时间段后启动超高能纳秒激光器，并在运行第三时间段后停止，且停止超高能纳秒激光器至下一次启动高效纳秒激光器之间间隔第四时间段；光学模组按照以上作步进移动，直至完成对待去污工件上表面的扫描。本发明的两路激光间隔协作复合作业，仅需一次扫描即可完成待去污表面附着物去污和放射性构件的深度剥离解控去污，提高去污效率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 放射性 去污 复合 式纳秒 激光 装置 方法 | ||
【主权项】：
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