[发明专利]微型发光二极管外延片及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202011214180.5 申请日: 2020-11-04
公开(公告)号: CN112531082B 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: 洪威威;商玉平;梅劲;董彬忠 申请(专利权)人: 华灿光电(浙江)有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/32;H01L33/00
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 吕耀萍
地址: 322000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本公开公开了一种微型发光二极管外延片及其制造方法,属于半导体技术领域。微型发光二极管外延片的每个量子阱层均包括依次层叠的第一量子阱层、第二量子阱层和第三量子阱层,第一量子阱层和第三量子阱层均为InxGa1‑xN层,第二量子阱层为In组分为零的GaN层,第一量子阱层中In组分的变化方式为:由零线性升高、再保持不变、再线性降低至零,第三量子阱层中In组分的变化方式与第一量子阱层中In组分的变化方式相同。采用上述结构的量子阱层,可以改善量子阱InGaN材料中富In局域态效应,使In组分稳定集中分布在量子阱层中,从而可以提高微型发光二极管的发光波长和发光颜色一致性。
搜索关键词: 微型 发光二极管 外延 及其 制造 方法
【主权项】:
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