[发明专利]一种预电离式高效等离子体合成射流激励器有效

专利信息
申请号: 202011215015.1 申请日: 2020-11-04
公开(公告)号: CN112333910B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 张志波;吴云;贾敏;宋慧敏;崔巍;苗慧丰 申请(专利权)人: 中国人民解放军空军工程大学
主分类号: H05H1/24 分类号: H05H1/24
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 710051 陕西省*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种预电离式高效等离子体合成射流激励器(103),由带射流出口的激励器头部(101)和激励器底部(102)两部分连接而成,激励器底部(102)激励器腔体(201)、放电电极、介质阻挡绝缘层(203),激励器壳体(205);激励器头部(101)整体为开槽的矩形薄板,该矩形薄板的外围尺寸和激励器底部(102)开放面的外围尺寸相同,保证激励器头部(101)与激励器底部(102)边沿对齐,激励器头部(101)中央开有通孔作为射流孔。本发明的等离子体合成射流激励器通过集成介质阻挡放电模块,利用介质阻挡放电产生预电离,为空间提供大量的初始种子电子,降低击穿电压,增加放电间距,从而提升能量利用率,能够解决目前等离子体合成射流激励器使用过程中遇到的击穿电压高、放电间距小、效率低的问题。
搜索关键词: 一种 电离 高效 等离子体 合成 射流 激励
【主权项】:
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