[发明专利]零电荷电位基电容去离子有效
申请号: | 202011223759.8 | 申请日: | 2016-01-15 |
公开(公告)号: | CN112441653B | 公开(公告)日: | 2023-05-09 |
发明(设计)人: | 高欣;A·欧姆赛比;J·R·兰登;K·刘 | 申请(专利权)人: | 肯塔基大学研究基金会 |
主分类号: | B01D15/36 | 分类号: | B01D15/36;C02F1/469 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 彭立兵;林柏楠 |
地址: | 美国肯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明是通过经表面改性改变电极表面的零电荷电位解决传统电容去离子(CDI)和膜电容去离子(MCDI)装置和方法的短寿命问题的电容(又称静电)去离子装置和方法。这样的电极表面改性提供极长寿命的电容去离子装置和方法。 | ||
搜索关键词: | 电荷 电位 电容 离子 | ||
【主权项】:
暂无信息
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