[发明专利]一种离散化区域扫描子阵级稀疏优化方法及系统有效

专利信息
申请号: 202011228440.4 申请日: 2020-11-06
公开(公告)号: CN112347696B 公开(公告)日: 2023-06-20
发明(设计)人: 朱庆超;方佳;徐龙;陶蕾;张小林;金谋平 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第三十八研究所
主分类号: G06F30/27 分类号: G06F30/27
代理公司: 合肥昊晟德专利代理事务所(普通合伙) 34153 代理人: 王林
地址: 230000 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种离散化区域扫描子阵级稀疏优化方法及系统,属于阵列天线设计技术领域,包括以下步骤:S1:初始种群离散化;S2:区域扫描处理;S3:优化处理。本发明应用于大型圆口径天线子阵级稀疏优化时,在子阵间距符合间距要求的情况下,大幅度减少优化时间并降低了副瓣电平,为快速求解在特定阵元间距限制条件下阵元的有效位置排布提供了新途径,提高了优化过程中解集的多样性,提高了寻得最优解的概率,有效避免了优化算法的局部收敛;并且设计出的阵列天线应用于大型雷达系统中时,雷达具有作用距离远、分辨率高、低成本、轻量化和工程可实现性强等优点,值得被推广使用。
搜索关键词: 一种 离散 区域 扫描 子阵级 稀疏 优化 方法 系统
【主权项】:
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