[发明专利]气相沉积设备和气相沉积方法在审

专利信息
申请号: 202011232047.2 申请日: 2020-11-06
公开(公告)号: CN112359347A 公开(公告)日: 2021-02-12
发明(设计)人: 张春雷;罗兴安;胡淼龙;蒋志超;王林 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;C23C16/455
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 骆希聪
地址: 430079 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种气相沉积设备和气相沉积方法。气相沉积设备包括基座、阻挡部件和气体导流通道。基座用于承载衬底。阻挡部件环绕所述基座设置,所述阻挡部件具有延伸到位于所述基座上的衬底边缘上方的阻挡边。所述气体导流通道,布置为沿着所述衬底的边缘延伸,以向所述衬底的边缘引入惰性气体,其中所述惰性气体的气流方向与用于沉积的反应气体的方向相对。
搜索关键词: 沉积 设备 和气 方法
【主权项】:
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