[发明专利]用于双室磁控镀膜机的前处理室有效
| 申请号： | 202011236500.7 | 申请日： | 2020-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN112458424B | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | 陈立;杨恒;金诚明;薛闯;寇立;祝海生;孙桂红;黄乐;黄国兴 | 申请（专利权）人： | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 湖南乔熹知识产权代理事务所(普通合伙) 43262 | 代理人： | 安曼 |
| 地址： | 411100 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于双室磁控镀膜机的前处理室，用于双室磁控镀膜机的前处理室包括呈矩形的前处理仓，所述前处理仓具有用于容置承载有工件的承载架的处理腔室，所述前处理室能够与镀膜室连通，在所述处理腔室的内部设有四个加热组件，四个所述加热组件分设在所述处理腔室的四个角部。本发明提供的用于双室磁控镀膜机的前处理室有效提高了工件的镀膜效率及镀膜效果。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 双室磁控 镀膜 处理 | ||
【主权项】：
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