[发明专利]非易失性存储器及其操作方法在审

专利信息
申请号: 202011237357.3 申请日: 2020-11-09
公开(公告)号: CN112825259A 公开(公告)日: 2021-05-21
发明(设计)人: 李珉贤;H.张;D.哈姆;C.刘;H.欣顿;金海龙;申铉振 申请(专利权)人: 三星电子株式会社;哈佛大学的校长及成员们
主分类号: G11C13/00 分类号: G11C13/00;G11C11/54;G11C13/04;G06N3/04;G06N3/067;G06N3/08
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 钱大勇
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种非易失性存储器件,包括:电阻切换层;在电阻切换层上的栅极;在电阻切换层与栅极之间的栅极氧化层;以及在电阻切换层上并彼此隔开的源极和漏极。电阻切换层的电阻值基于照射在电阻切换层上的光的照度而改变,并保持为改变后的电阻值。
搜索关键词: 非易失性存储器 及其 操作方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社;哈佛大学的校长及成员们,未经三星电子株式会社;哈佛大学的校长及成员们许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011237357.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top